ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 - Nanotechnologie - Slovník - Část 6: Charakterizace nanoobjektu
| Download standard: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 (Show details) |
| Published: | 2016-11-01 |
| Source: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-6:ed-1:v1:en |
| Classification symbol: | 012003 |
| Category: | Nanotechnologie |
| ICS: |
|
| Status: | Invalid |
3.5.8 nízkoenergetická elektronová mikroskopie, LEEM
metoda, která zkoumá povrchy, kde obrázky a/nebo difrakční vzory povrchu jsou tvořeny nízkoenergetickou elastickou odrazivostí elektronů generovaných neskenovacím elektronovým paprskem
POZNÁMKA 1 k heslu Tato metoda se obvykle používá pro zobrazování a analýzu velmi plochých, čistých povrchů.
POZNÁMKA 2 k heslu Nízkoenergetické elektrony mají energii obvykle v rozmezí od 1 eV do 100 eV.
3.5.8 low energy electron microscopy, LEEM
method that examines surfaces where images and/or diffraction patterns of the surfaces are formed by low-energy elastically backscattered electrons generated by a non-scanning electron beam
Note 1 to entry: The method is typically used for the imaging and analysis of very flat, clean surfaces.
Note 2 to entry: Low energy electrons have energies typically in the range 1 eV to 100 eV.