Informační systém Uvádění výrobků na trh
Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - extrémní ultrafialová litografie EUV

ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby

Stáhnout normu: ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti)
Datum vydání/vložení: 2016-11-01
Zdroj: https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en
Třidící znak: 012003
ICS:
  • 01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví)
  • 07.120 - Nanotechnologie
Stav: Neplatná
Terminologie normy
Nahlásit chybu

7.1.8 extrémní ultrafialová litografie EUV

expozice rezistentního materiálu pomocí elektromagnetického záření o vlnové délce přibližně 10 nm až 20 nm.

POZNÁMKA 1 k heslu Pro zaostření záření se obvykle používá reflexní optika.

7.1.8 extreme ultraviolet lithography EUV

exposure of a resist material using electromagnetic radiation of approximately 10 nm to 20 nm wavelength

NOTE 1 to entry Usually reflective optics are used to focus the radiation.

Využíváme soubory cookies, díky kterým Vám mužeme poskytovat lepší služby. Využíváním našich služeb s jejich využitím souhlasíte. Více zde Souhlasím